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石墨烯是世上薄卻也是堅硬的納米材料，它幾乎是透明的，只吸收2.3的光，導(dǎo)熱系數(shù)高達5300 W/m·K，高于碳納米管和金剛石，常溫下其電子遷移率超過15000 cm2/V·s，又比納米碳管或硅晶體（monocrystalline silicon）高，而電阻率只約10-6 Ω·cm，比銅或銀更低。

設(shè)備原理
石墨烯漿料高剪切分散機的線速度達66M/S，由3級可調(diào)間隙的錐形定子和3級高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊，根據(jù)生產(chǎn)要求，剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調(diào)速，定轉(zhuǎn)子每一級上的凹槽一級比一級精細，深度，方向的不同增加了流體的揣流。當物料經(jīng)過的時候，形成強有力的擠壓、剪切、乳化、粉碎、混合、分散均質(zhì)及研磨作用。從而得到精細超微粒乳化研磨的較高效益。錐形定子外圍、出料腔體及密封件部位有循環(huán)水冷卻，可根據(jù)用戶的特殊要求提供多功能的可空轉(zhuǎn)式運作。石墨烯研磨分散機結(jié)合乳化機與膠體磨的特長，具有吸、消泡能力。使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

石墨烯分散難點：石墨烯研究所在開發(fā)石墨烯的過程中，遇到如何將石墨更好的細化，以及細化后團聚問題，成為大的難點。

SZX石墨烯高剪切分散機及解決方案：
ZRFS2000系列石墨烯高剪切分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。SDH3是一種三級高剪切在線分散機，用于生產(chǎn)非常精細的乳液和懸浮液。工作腔內(nèi)的剪切力大大增加了物料的輸送，加快了單分子和高分子物質(zhì)的溶解速度。三級定轉(zhuǎn)子組合（分散頭）確保液滴或粒度小且分布范圍很窄。此工藝可以使單次混合的混合物長時間保持穩(wěn)定，尤其是混合乳化液時。蘇州贊歆ZRFS2000系列研磨分散機,可以很好的解決這兩個問題.SDH3系列的膠體磨（錐體磨） 分散頭的組合,可以先將石墨混合物（配入溶劑和分散劑）研磨細化,然后再經(jīng)過分散頭,進行分散。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象,為石墨烯行業(yè)提供了強有力的設(shè)備力量。

石墨烯剝離過程：
液相直接剝離法制備,石液相直接剝離法制備墨烯 液相直接剝離法,石墨烯研磨分散機,液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機,液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機是是利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒被分離、潤濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。

液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機通常直接把石墨或膨脹石墨（（一般通過快速升溫至1000℃以上把表面含氧基團除去來獲取）加在某種有機溶劑或水中, 借助超聲波、加熱或氣流的作用制備一定濃度的單層或多層石墨烯溶液。coleman等參照液相剝離碳納米管的方式將石墨分散在n-甲基吡咯烷酮（nmp）中, 超聲1h后單層石墨烯的產(chǎn)率為1, 而長時間的超聲(462h)可使石墨烯濃度高達1.2mg/ml, 單層石墨烯的產(chǎn)率也提高到4[17]。 他們的研究表明, 當溶劑的表面能與石墨烯相匹配時, 溶劑與石墨烯之間的相互作用可以平衡剝離石墨烯所需的能量, 而能夠較好地剝離石墨烯的溶劑表面張力范圍為40~50mj/m2；[18]把石墨直接分散在鄰二氯苯（表面張力:36.6mj/m2）中, 超聲、離心后制備了大塊狀（100~500nm）的單層石墨烯；[利用液?液界面自組裝在*烷中制備了表面高度疏水、高電導(dǎo)率和透明度較好的單層石墨烯。為提高石墨烯的產(chǎn)率, 近 等發(fā)展了一種稱為溶劑熱插層（制備石墨烯的新方法，該法是以eg為原料, 利用強極性有機溶劑乙腈與石墨烯片的雙偶極誘導(dǎo)作用來剝離、分散石墨, 使石墨烯的總產(chǎn)率提高到10~12。同時, 為增加石墨烯溶液的穩(wěn)定性, 人們往往在液相剝離石墨片層過程中加入一些穩(wěn)定劑以防止石墨烯因片層間的范德華力而重新聚集。

石墨烯漿料高剪切分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

磨頭結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。雖然與國產(chǎn)的都是三級結(jié)構(gòu)，但是他們的設(shè)計不同理念不同，形狀及齒列的結(jié)構(gòu)。磨頭結(jié)構(gòu)SZX有多 種的膠體磨頭主要內(nèi)部結(jié)構(gòu)區(qū)別溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺ZRF磨頭 配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道 的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨果。

影響研磨效果因：

1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭頭的剪切速率素

3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見磨頭結(jié)構(gòu)）

4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 – 研磨速率(s-1) = v 速率(m/s) g 定-轉(zhuǎn)子間距(m) 由上可知，研磨速率取決于以下因素： – 磨頭的線速率 – 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。（相對而言） 速率 V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60 作用力 F=23/0.7X1000=32857 S-1 F=40/0.7/X1000=57142 S-1 而對ZRF模塊頭，磨頭的間隙理論上可以無限小，但是由于高速的 運轉(zhuǎn)，造成 軸的振動，需要一定的間歇，作用力可以無限大。但實際上比膠體磨要好。這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于后者是前者的 2-3 倍

①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速均質(zhì)乳化