| 分子束蒸發(fā)源SOURCE-1250用于在超高真空中制備MBE生長的薄膜 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
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| 上架時(shí)間：2022-08-19 14:01:48 | 瀏覽量：195 | |
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分子束蒸發(fā)源SOURCE-1250用于在超高真空中制備MBE生長的薄膜 分子束蒸發(fā)源SOURCE-1250特點(diǎn)簡(jiǎn)介： 分子束蒸發(fā)源，用于在超高真空中制備MBE生長的薄膜 開放式蒸發(fā)源，它的設(shè)計(jì)是為了盡量減少分子束 輻射時(shí)的氣體排放 安裝法蘭盤：ICF070·114等 溫度控制：通過PID控制Max1250 分子束蒸發(fā)源SOURCE-1250規(guī)格： (1) 坩堝容量：約10cc（唇邊約15mm x 57mm） (2) 坩堝材料PBN (3) 加熱器 高純度Ta線盤繞 (4) 側(cè)面反射器 5層 高純度Ta (5) 加熱元件支撐底座 高純度Mo (6) 熱電偶Pr13 (7) 加熱元件的外部形狀為φ35X50mm (8) 工作溫度范圍300°C至1250°C (9) 百葉窗的開/關(guān)由微型法蘭盤旋轉(zhuǎn)導(dǎo)入機(jī)完成（標(biāo)準(zhǔn)手動(dòng)：空氣驅(qū)動(dòng)是可選的） (10) 安裝法蘭114CF (4.5 "CF) (11) 加熱電源 1KW直流電源，有電流和電壓限制 (12) 溫度控制器：PID控制方式RT~1800°C，控制精度0.1°C (13) 烘烤溫度：250°C（拆除電纜和空氣驅(qū)動(dòng)裝置后） 了解更多：http://www.hapoin.com/Science_Device/ 分子束蒸發(fā)源SOURCE-1250相關(guān)產(chǎn)品： 衡鵬供應(yīng) MBE-260_MBE裝置 RHEED-1000_RHEED Unit PLD-M_復(fù)合PLD設(shè)備 |
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